任职要求:1、微电子、电子科学与技术、材料物理与化学等理工专业本科及以上学历;优秀应届硕士亦可考虑;2、精通蚀刻相关工艺原理,能够熟练使用ICP干法蚀刻设备、离子清洗设备、剥离设备、湿法清洗机台等相关设备;3、能够使用台阶仪、显微镜等测量设备;4、3年以上半导体厂刻蚀工作经验,或2年以上半导体芯片制造厂刻蚀工程师工作经验;5、具有良好的团队合作意识和沟通能力;6、熟练应用日常办公软件;7、具备一定工程管理思维逻辑,熟悉各类工程分析方法,能够独立完成PPT总结分析报告。